Industries and
Reference Cases
集群和内联设备变得日益复杂。 这种情况在多个行业内真实存在,如半导体和平板显示器制造业。 由于制造商期望这些复杂设备具有很高的利用率,所以他们需要有效的解决方案来确保实现最高的生产力。 FutureFab.Ai eMPA 旨在提高工厂生产力和总体设备效率管理(OEE)。 凭借OEE 管理、基于规则的状态管理和各种损失分析功能,该解决方案使工程师有能力轻松跟踪和分析损失。 工作流程引擎允许您定制和启动您自己定制的逻辑,而无需停止系统。 事件和状态图功能,赋予您更高能力,能够应对复杂的选择要求。 分析功能,连同各种标准和自定义的指标,可帮助您确定任何处理瓶颈的根本原因。
半导体和 FPD 行业都是初始投资成本极高的行业示例。 大约投资额的 60-70% 花费在设备上。 因此,在生产过程中,重要的是有效管理 OEE,以求最高的 ROI。 借助 FutureFab.Ai eMPA,经过实证的实时监控解决方案作为产品运用到生产流程中,捕获和管理诸如路径信息和步骤的开始/结束时间等信息。 这些信息非常有助于我们追溯问题。 不管在哪个国家/地区生产,制造运营的标准化都是确保高产品质量的必要前提。 FutureFab.Ai 解决方案可实现以下目标,同时遵守所有 SEMI 和 SEMATECH OEE 管理系统标准。
FutureFab.Ai 智能制造解决方案是为了未来化工厂而量身订制,藉由整合制造过程中所牵涉的所有环节,提供更好的实时侦测、分析、预测和适应性来改善生产的体质,进而降低成本、提高运作效率和良率。 FutureFab.Ai 解决方案支持搜集、管理、分析数据、监控设备状态、优化生产过程及识别异常发生的根本原因,从而减少生产风险。除此之外,还支持机器学习和基于 AI 的分析、预测以及持续性优化的应用程序,从而加速工厂对于智能制造的转型。
通过各种图表,对各种设备损失进行根本原因分析
管理设备内部损耗:可用性、运营、速率和质量损失
管理设备外部损耗:未成产品的基片、移动损失、开始时间延迟、产品或工艺程序的频繁变更
图形工作流程,用于定义自定义的损失要求
过程和节拍时间分析,用于通过图表进行基片追溯
事件组(LOT、过程、基片、腔室开始/结束)分析
通过使用各种数学库和 SPC 规则,分析和封锁基片追溯时间
通过使用 eMPA 独有的停机规则和运行规则,就可以生成模块之间的复杂关系,如基于集群的设备或内联设备。 通过将生成事件和警报的较低级子设备的状态结合运用,以及应用停机规则和运行规则,来轻松确定和管理未生成事件或警报的主设备或子设备的状态。
半导体
半导体生产设备
FPD
LED
PCB/SMT
- 实时监控提高产品质量和产量
- 消除SPC建模提高工程生产率
- 降低影响产量事件的风险
- 快速提高新产品的产量
- 实时监控提高产品质量和产量
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